LiAlO2 સબસ્ટ્રેટ

LiAlO2 સબસ્ટ્રેટ એ લિથિયમ એલ્યુમિનિયમ ઓક્સાઇડ (LiAlO2) ના બનેલા સબસ્ટ્રેટનો સંદર્ભ આપે છે.LiAlO2 એ સ્ફટિકીય સંયોજન છે જે અવકાશ જૂથ R3m સાથે સંકળાયેલું છે અને ત્રિકોણાકાર સ્ફટિક માળખું ધરાવે છે.

LiAlO2 સબસ્ટ્રેટનો ઉપયોગ વિવિધ કાર્યક્રમોમાં કરવામાં આવ્યો છે, જેમાં પાતળા ફિલ્મ વૃદ્ધિ, એપિટેક્સિયલ સ્તરો અને ઈલેક્ટ્રોનિક, ઓપ્ટોઈલેક્ટ્રોનિક અને ફોટોનિક ઉપકરણો માટે હેટરોસ્ટ્રક્ચરનો સમાવેશ થાય છે.તેના ઉત્તમ ભૌતિક અને રાસાયણિક ગુણધર્મોને લીધે, તે ખાસ કરીને વિશાળ બેન્ડગેપ સેમિકન્ડક્ટર ઉપકરણોના વિકાસ માટે યોગ્ય છે.

LiAlO2 સબસ્ટ્રેટ્સનો મુખ્ય ઉપયોગ ગેલિયમ નાઇટ્રાઇડ (GaN) આધારિત ઉપકરણો જેવા કે હાઇ ઇલેક્ટ્રોન મોબિલિટી ટ્રાન્ઝિસ્ટર (HEMTs) અને લાઇટ એમિટિંગ ડાયોડ્સ (LEDs) ના ક્ષેત્રમાં છે.LiAlO2 અને GaN વચ્ચેની જાળીનો મેળ પ્રમાણમાં નાનો છે, જે તેને GaN પાતળી ફિલ્મોના એપિટેક્સિયલ વૃદ્ધિ માટે યોગ્ય સબસ્ટ્રેટ બનાવે છે.LiAlO2 સબસ્ટ્રેટ GaN ડિપોઝિશન માટે ઉચ્ચ-ગુણવત્તાનો નમૂનો પૂરો પાડે છે, જેના પરિણામે ઉપકરણની કામગીરી અને વિશ્વસનીયતામાં સુધારો થાય છે.

LiAlO2 સબસ્ટ્રેટ્સનો ઉપયોગ અન્ય ક્ષેત્રોમાં પણ થાય છે જેમ કે મેમરી ઉપકરણો માટે ફેરોઇલેક્ટ્રિક સામગ્રીની વૃદ્ધિ, પીઝોઇલેક્ટ્રિક ઉપકરણોનો વિકાસ અને ઘન-સ્થિતિની બેટરીઓનું નિર્માણ.તેમના અનન્ય ગુણધર્મો, જેમ કે ઉચ્ચ થર્મલ વાહકતા, સારી યાંત્રિક સ્થિરતા અને ઓછી ડાઇલેક્ટ્રિક સ્થિરતા, તેમને આ એપ્લિકેશન્સમાં ફાયદા આપે છે.

સારાંશમાં, LiAlO2 સબસ્ટ્રેટ એ લિથિયમ એલ્યુમિનિયમ ઓક્સાઇડથી બનેલા સબસ્ટ્રેટનો સંદર્ભ આપે છે.LiAlO2 સબસ્ટ્રેટનો ઉપયોગ વિવિધ કાર્યક્રમોમાં થાય છે, ખાસ કરીને GaN-આધારિત ઉપકરણોના વિકાસ માટે અને અન્ય ઈલેક્ટ્રોનિક, ઓપ્ટોઈલેક્ટ્રોનિક અને ફોટોનિક ઉપકરણોના વિકાસ માટે.તેઓ ઇચ્છનીય ભૌતિક અને રાસાયણિક ગુણધર્મો ધરાવે છે જે તેમને પાતળી ફિલ્મો અને હેટરોસ્ટ્રક્ચર્સના જુબાની માટે યોગ્ય બનાવે છે અને ઉપકરણની કામગીરીમાં વધારો કરે છે.